Jedyną znaną metodą precyzyjnego polerowania wafli krzemowych do produkcji układów scalonych jest proces CMP (chemiczno-mechaniczne polerowanie). W procesie tym, do obróbki materiału stosuje się środki polerskie w postaci zawiesin. Zawiesiny te oddziałują na polerowaną warstwę zarówno chemicznie jak i mechanicznie, ścierając powierzchnię płytki.
W celu uzyskania odpowiedniej płynności, uziarnienie stosowanych w tym procesie zawiesin musi być precyzyjnie określone. Kwestią o podstawowym znaczeniu jest wyeliminowanie wszelkiego nadziarna, tak, aby zapobiec wadom powstałym na skutek zarysowań. Zawiesiny CMP oparte na tlenku glinu lub krzemionce (SiO2) produkuje się na skalę przemysłową w młynach Zeta®.