抛光(CMP)

精细抛光晶片, 用于芯片生产,唯一已知的方法是CMP(化学机械抛光)。在这个过程中,抛光悬浮剂用于加工材料。这些悬浮剂对抛光层具有化学作用, 机械,对晶片表面有机械、研磨效果。这些悬浮粒度分布,必须准确界定,以便在这个过程中获得适当的流动性。其中最重要的是要消除所有超大颗粒,以防止划伤造成的瑕疵。基于氧化铝或二氧化硅, CMP浆料使用Zeta®砂磨机工业规模生产。


湿法研磨

湿法研磨产品&应用解决方案
纳米级循环砂磨机Zeta® RS

该机型专用于物料细度要求在纳米级范围的研磨和分散。设计新颖,操作简单,经济实惠,在技术方面更是具有革命性的翻新。

耐驰Alpha®-新一代搅拌研磨机

NETZSCH-Feinmahltechnik GmbH has now developed the new Alpha® modular machine platform. Compared to earlier-generation machines, this series is designed such that different grinding systems can be mounted on the same base platform as appropriate for a defined drive capacity.

大流量循环砂磨机Zeta®

该机型适用于各种领域,所用研磨介质的范围在90到3微米,适用的粘度范围也相当广泛,颗粒细度可直达纳米级,颗粒分布曲线可至最优.

实验室砂磨机LabStar

多功能实验之星LabStar 主要用于难度较大的学术研究和发展。此机型是 NETZSCH-Feinmahltechnik GmbH 里最小的机型,能够准确地规划从小试到大规模生产

实验室砂磨机MiniZeta

用途广泛的实验室循环式砂磨机MiniZeta 在研究和发展方面起到了很大的作用。该机型操作简单,清洗方便,不锈钢材质,物料可达亚微米级别.

MiniSeries - 产品研发和小批量生产的实验室仪器

设计紧凑,用途广泛的实验室砂磨机系列对于小批量物料(0.25 - 0.5 l)的研磨非常方便,且物料细度可以达到纳米级范围。主要用于产品试验和分析


干法研磨

干法研磨产品&应用解决方案
s-Jet® 超高温蒸气磨

新型 s-Jet® (专利申请中)是气流磨领域里的一项新的创新技术,颗粒细度能达到亚微米范围 (如: d50 0,2 µm). 跟其他传统的气流磨相比较,s-Jet® 使用的是蒸汽。

s-Jet® 25 实验型超高温蒸汽喷气研磨

新型 s-Jet® (专利申请中)是气流磨领域里的一项新的创新技术,颗粒细度能达到亚微米范围 (如: d50 0,2 µm). 跟其他传统的气流磨相比较,s-Jet® 使用的是蒸汽。


耐驰研磨珠

耐驰研磨珠产品&应用解决方案
钇稳定锆珠ZetaBeads® Plus

钇稳定氧化锆珠 (高端质量)

钇稳定锆珠ZetaBeads® Nano

纳米应用钇稳定氧化锆珠(高端质量)